În lumea cipurilor, limita nu este mereu “designul”, ci viteza de producție. Contează cât de mult poate face o mașină de litografie într-o oră. ASML spune că a îmbunătățit sursa de lumină pentru echipamentele sale EUV, cele mai importante pentru cipurile de ultimă generație. Dacă planul se confirmă, până la finalul deceniului se pot fabrica cu până la 50% mai multe cipuri.
Pentru investitori, diferența este că firma vorbește despre o soluție pentru utilizare reală, nu despre un test în laborator. ASML afirmă că sistemul poate livra 1.000 de wați de lumină EUV în condiții similare cu cele de la client. Asta poate reduce costul de producție al celor mai avansate cipuri. În același timp, întărește avantajul ASML într-un moment în care apar noi rivali în SUA și China încearcă să recupereze rapid.
Ce a anunțat ASML de fapt: 1 000 W în loc de 500-600 W
Esența veștii este simplă și greu de măsurat: cercetătorii ASML au crescut puterea EUV a sursei de lumină la 1.000 de wați, față de aproximativ 600 de wați în prezent. În litografie, acesta nu este un detaliu - o putere mai mare înseamnă un timp de "iluminare" mai scurt pe plachetă, adică rate de producție mai rapide cu aceleași cerințe de calitate.
Între timp, ASML este încă singura companie din lume care furnizează mașini comerciale de litografie în ultraviolet extrem (EUV) - o tehnologie de care nu se pot lipsi cele mai avansate cipuri de calcul ale unor companii precum TSMC $TSM sau Intel $INTC.
De ce contează performanța sursei: viteza, costul și capacitatea fabricii
În practică, este în joc economia întregii producții de semiconductori. Atunci când un pas cheie (iluminarea) este făcut mai rapid, numărul de plachete pe care o mașină le poate gestiona pe oră crește. ASML menționează direct obiectivul conform căruia clienții ar trebui să ajungă la aproximativ 330 de plachete pe oră până la sfârșitul deceniului, comparativ cu aproximativ 220 de plachete pe oră în prezent.
Acest lucru se traduce apoi în prețul fiecărui cip: aceeași fabrică poate produce mai mult și, nefiind nevoie să adauge atât de multe mașini scumpe, costul unitar scade. Pentru procesele avansate, în care investițiile în echipamente sunt extreme, o astfel de schimbare este una dintre puținele pârghii care pot reduce vizibil costurile.
Cum funcționează tehnic: staniu, laser și "plasmă"
ASML $ASML produce lumina EUV într-un mod care reprezintă în sine o frontieră tehnologică. Într-o cameră sunt aruncate picături minuscule de staniu topit, care sunt apoi lovite de un laser puternic, transformând staniolul într-o stare extrem de fierbinte (plasmă) și emițând în acest proces lumină EUV cu o lungime de undă de 13,5 nanometri. Aceasta este apoi colectată prin optică de înaltă tehnologie și introdusă într-o mașină unde "desenează" structuri pe plachetă.
Trecerea specifică la 1.000 de wați se va baza pe două schimbări: ASML a crescut numărul de picături de staniu la aproximativ 100.000 pe secundă și, în loc de un impuls laser de "modelare", utilizează două impulsuri mai mici pentru a pregăti mai bine materialul pentru lovitura principală. Rezultatul este o putere stabilă mai mare și o cale către o scalare ulterioară.
De ce este o veste și pentru concurență: SUA și China fac presiuni pentru apariția de alternative
Mașinile EUV sunt atât de strategice încât, de ani de zile, există o luptă geopolitică în jurul lor. SUA au exercitat presiuni îndelungate asupra Țărilor de Jos pentru ca acestea să nu livreze Chinei cele mai avansate sisteme, iar China a investit în același timp masiv în încercări interne de a construi o alternativă.
Noutatea constă în faptul că, pe lângă ambițiile Chinei, începe să se contureze un efort al SUA de a crea concurență direct la o parte critică a sistemului - sursa de lumină EUV. Reuters menționează cel puțin două startup-uri care lucrează în acest sens și care au strâns sute de milioane de dolari. În același timp, sprijinul guvernamental direct este, de asemenea, vizibil: xLight, de exemplu, a anunțat un acord de tip "scrisoare de intenție" cu Departamentul de Comerț al SUA pentru un sprijin de până la 150 de milioane de dolari în vederea dezvoltării unei abordări alternative a sursei EUV.
Mesajul ASML cu privire la această schimbare este simplu: chiar dacă cineva construiește odată o "fundație" competitivă, ASML dorește să fie cu câteva iterații înainte. Și compania însăși spune că, în principiu, vede deja o cale realistă către 1 500 de wați și mai mult, în plus față de 1 000 de wați.
Ce ar putea însemna acest lucru pentru rezultatele ASML: cererea, prețurile și ciclul de investiții
Pe termen scurt, nu există o creștere imediată a vânzărilor din această cauză. Mai degrabă, este o consolidare a "foii de parcurs a produselor" și un argument pentru clienți de a planifica capacitatea EUV în viitor. În activitatea ASML, mai multe efecte joacă un rol simultan: atunci când producția (plachete pe oră) crește, clienții pot obține o parte din capacitate "mai ieftin" pe aceeași bază, dar, de asemenea, face EUV și mai atractiv pentru o gamă mai largă de producție - și acest lucru poate susține cererea pe termen lung pentru sisteme suplimentare și actualizări.
Contextul este, de asemenea, important: în ultimele luni, China a încercat să crească performanța chiar și pe mașini mai vechi, deoarece tehnologia EUV este practic inaccesibilă din cauza constrângerilor. Acest lucru arată două lucruri - cât de mare este motivația de a ajunge din urmă topurile și, de asemenea, cât de puternică este poziția ASML la nodurile cele mai avansate.
Ce trebuie să urmărim în continuare: 3 semnale specifice
În primul rând, când și în ce formă ASML va începe să ducă resursa de 1.000 de wați de la demonstrația internă la instalațiile reale și cum va vorbi despre stabilitatea și disponibilitatea energiei "la client".
În al doilea rând, dacă așteptările privind randamentul sistemului EUV (obiectivul de 330 de plachete pe oră) vor începe să se schimbe în planurile de producție specifice ale marilor jucători din domeniul turnătoriilor.
În al treilea rând, cât de repede se va mișca urmărirea alternativelor în SUA (xLight și altele) și dacă se vor adăuga fonduri publice suplimentare sau parteneriate cu actori mari.